光學膜厚測量儀的原理和產品特性介紹

　　光學膜厚測量儀測量原理如下：在測量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可視光，這時光的一部分在膜的表面反射，另一部分透進薄膜，然后在膜與底層 (晶圓或玻璃)之間的界面反射。這時薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光產生干涉現象。光學薄膜測厚儀就是利用這種干涉現象來測量薄膜厚度的儀器。

　　儀器的光源使用鎢絲燈，波長范圍是400 nm~800 nm。從ST2000到ST7000使用這種原理，測量面積的直徑大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作為K-MAC (株) 主要的產品之一，有影像處理的功能，是超越一般薄膜厚度測量儀器的新概念上的厚度測量儀器。測量面積的zui小直徑為0.2μm，遠超過一般厚度測量儀器的測量jixian (4μm)。順次測量數十個點才能得到的厚度地圖也可一次測量得到，使速度和度都大大提高。

　　光學膜厚測量儀特性：

　　a.測量膜厚和折射率，膜厚重復精度達１納米，折射率重復精度達0.01；

　　b.有配氣浮平臺便于移動大片玻璃；

　　c.質量控制,生產過程控制；

　　d.用于檢測太陽能AR減反膜玻璃生產線中整片玻璃的在線檢測或離線抽檢。

　　2.光學膜厚測量儀AR2 –ONLINE配套軟件特性：

　　a.菜單管理；

　　b.實時在線或離線抽檢監控和歷史數據界面；

　　c.輸出至SQL服務器；小型內置式SQL；

　　d.光學膜厚測量儀可根據客戶要求定制界面。